型号📠:ORION-8-UHV
设备介绍:本实验室使用的是美国AJA International公司ATC ORION 8型号的磁控溅射生长设备🛗,如下图所示。AJA磁控溅射生长设备是一款高性价比🍏,集成度高,模块化的紧凑型物理气相沉积设备。磁控溅射生长技术(Magnetron Sputtering)采用等离子溅射沉积技术制备薄膜材料,是一种常见的PVD薄膜制备方法🌜。磁控溅射法是基于传统二级溅射法改良而来,区别在于垂直于电场方向添加了磁场,有助于延长电子的运动轨迹🆖,电离出更多的电子,碰撞出大量氩离子🐭,进一步提升溅射速率。
技术指标:1) 沉积速率快且稳定,基片或衬底升温低👈🏻🏝,对薄膜损害小;2) 靶材材料包容性强👩🍼,磁控溅射可用靶材有:导体(Pt🧔🏻♂️,Co🏋🏿,Ta等)✍🏼,半导体(GaN🙅🏻♀️,InP等)以及绝缘体(MgO💅,SiO2,SiN 等)🔡。3) 制备面积大,厚度均匀,生产工艺可控,重复性好,有利于实现工业化大规模生产💁🏻♀️。