[5月23日]高分子辅助沉积法制备氧化物薄膜材料

题　目🌀👐🏽：高分子辅助沉积法制备氧化物薄膜材料
报告人：林媛教授（电子科技大学微电子与固体电子意昂4）
时　间：5月23日（周四）⛱，下午3:00
地　点：物理馆512室

摘要：
高分子辅助沉积法是近年来发展起来的一种化学溶液沉积法。它具有设备简单🥋、成本低廉、可控性和溶液稳定性较好等优点👱🏼‍♂️。本报告将介绍这种薄膜沉积方法在氧化物薄膜材料制备中的应用。重点介绍在金属镍基底上氧化物薄膜BaTiO3的生长及多价态金属氧化物VOx的制备和价态控制。

个人简介：
林媛，于1999年在中国科学技术大学获得博士学位🤟🏻，其后分别在中科院物理所、美国休斯顿大学、美国Los Alamos国家实验室从事博士后研究，2006年~2008年在美国Intel公司封装测试技术研发中心任高级工程师。2008年入选教育部第九批特聘教授，回国到电子科大工作🏊🏿‍♀️。林媛博士的研究领域是电子薄膜材料的制备及其应用🎂。近十年在Nature Materials、Advanced Materials、Angewandte Chemie Inter. Ed.🧑🏿‍🎨、Appl. Phys. Lett等刊物上发表学术论文60余篇🧨，SCI他引700余次；已授权中国发明专利3项，美国发明专利3项♠︎。